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TAN, I. H.; UEDA, M.; DALLAQUA, R. S.; ROSSI, J. O. Magnetic suppression of secondary electrons in plasma immersion ion implantation. Applied Physics Letters, v. 86, n. 2, (campo ausente ou vazio: 'pages') Jan. 2005. DOI: <10.1063/1.1852704>. (INPE-12566-PRE/7861). Disponível em: <http://doi.org/10.1063/1.1852704>.
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... como proposto por Tan et al. (2005).
... pode ser encontrada na literatura (TAN et al., 2005).